用于提升PECVD镀膜均匀性的装置[实用新型专利]

来源：星星旅游

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：用于提升PECVD镀膜均匀性的装置专利类型：实用新型专利

发明人：任现坤,姜言森,张春艳,程亮,贾河顺,徐振华申请号：CN201220662028.8申请日：20121205公开号：CN203049033U公开日：20130710

摘要：本实用新型涉及太阳电池的生产技术领域，具体涉及一种用于提升PECVD镀膜均匀性的装置，包括沉积腔、射频电极和进气系统，还包括设置于沉积腔下方的真空系统，沉积腔为管式真空腔体，进气系统采用纵向进气的方式，包括位于沉积腔一侧的进气装置。本实用新型的进气方式由原来的沉积腔横向进气改为纵向进气，出气方式改为沉积腔体上设置一出气口的出气方式，这样既提升了薄膜的性能，还有效的提高了PECVD薄膜制备过程中对工艺气体的利用率。

申请人：山东力诺太阳能电力股份有限公司

地址：250103 山东省济南市经十东路30766号力诺科技园

国籍：CN

代理机构：济南舜源专利事务所有限公司

代理人：宋玉霞

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