专利名称：微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统专利类型：发明专利
发明人：陶华露,李文杰,童君,程冠铭,冯叶,隋帆,李伟民,钟国
华,杨春雷
申请号：CN201810864075.2申请日：20180801公开号：CN109031884A公开日：20181218
摘要：本发明提供了微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统，所述制作方法包括步骤：提供一衬底，并在所述衬底上制作形成相变薄膜；在所述相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜；利用激光穿过所述非线性饱和吸收膜，并按照预定图案对所述相变薄膜进行曝光；利用显影液对曝光后的相变薄膜进行显影，同时将所述非线性饱和吸收膜去除。所述方法一方面通过在相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜，使激光穿过所述非线性饱和吸收膜，对相变薄膜进行曝光以制作微纳结构，使激光光束更为集中，缩小了光斑，提高了制得的微纳结构的精度；另一方面选用飞秒激光作为激光源，避免激光的热效应影响非曝光区域，从而进一步提高了微纳结构的精度。
申请人：深圳先进技术研究院
地址：518055 广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1068号
国籍：CN
代理机构：深圳市铭粤知识产权代理有限公司
代理人：孙伟峰
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容