清洗方法和清洗装置[发明专利]

来源：星星旅游

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：清洗方法和清洗装置专利类型：发明专利发明人：广瀬治道

申请号：CN201410408810.0申请日：20110526公开号：CN104307780A公开日：20150128

摘要：本发明提供清洗方法和清洗装置。在施加处理液来清洗被清洗物的清洗方法中，具有：第1步骤(S3)，对所述被清洗物施加包含微纳气泡或纳气泡等较小尺寸的气泡的第1处理液；以及第2步骤(S4)，在该第1步骤后，对附着有所述第1处理液的状态下的所述被清洗物施加第2处理液，该第2处理液包含比所述第1处理液所包含的气泡的尺寸大的微气泡等气泡，在利用第1处理液进行清洗后，利用包含比该第1处理液所包含的气泡的尺寸大的气泡的第2处理液进行清洗，所以，能够在使用利用了较小气泡的优良性质的第1处理液进行清洗后，使用利用了较大气泡的优良性质的第2处理液进行清洗。

申请人：芝浦机械电子装置股份有限公司

地址：日本神奈川县

国籍：JP

代理机构：北京三友知识产权代理有限公司

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