专利名称：Process for continuous annealing of metal
substrates
发明人：Vanden Brande, Pierre,Weymeersch,
Alain,Harlet, Philippe
申请号：EP98870028.2申请日：19980211公开号：EP08797A1公开日：19981125
摘要：annealing process of a metallic substrate in the parade, such as a steel plate,the annealing is carried out by means of plasma discharge.
申请人：RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, enabrégé: RD-CS
地址：Campus Universitaire du Sart Tilman, Boulevard de Colonster B 57 4000 LiègeBE
国籍：BE
代理机构：Callewaert, Jean
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