一种用于单晶硅片清洗的清洗装置[实用新型专利]

来源：星星旅游

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种用于单晶硅片清洗的清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：陈峰

申请号：CN201821360040.7申请日：20180822公开号：CN20329U公开日：20190604

摘要：本实用新型公开了一种用于单晶硅片清洗的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括筒体，筒体表面开有数个均匀分布的小通孔，筒体的内部设有数个隔板，等距分布，隔板之间设有间隙，隔板整体呈环形，筒体的两端设有端盖，端盖设于筒体内部，筒体两端的端盖的外侧中心均固连一个主轴，主轴通过轴承与清洗槽连接，其中筒体左侧的主轴上还设有从动齿轮，从动齿轮与主动齿轮啮合，主动齿轮安装于电机的输出轴上；筒体的下方设有水管；该用于单晶硅片清洗的清洗装置利用筒体装载单晶硅片，不会发生重叠，同时在冲洗时能够利用主轴带动筒体转动使冲洗更加均匀，大大提高清洗效率，值得大力推广。

申请人：浙江众晶电子有限公司

地址：324000 浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号

国籍：CN

代理机构：昆明合众智信知识产权事务所

代理人：钱磊

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