第３期 ２０１７年６月 矿产保护与利用 ＣＯＮＳＥＲＶＡＴＩＯＮ ＡＮＤ ＵＴＩＬＩＺＡＴＩＯＮ ＯＦ ＭＩＮＥＲＡＬ ＲＥＳＯＵＲＣＥＳ №．３ Ｊｕｎ．２０１７ 石墨烯的制备及其在光催化材料中的应用 李珍 ，杨剑波 ，刘学琴 ，沈毅 ，李云国。，张寄丹。 （１．纳米矿物材料及应用教育部工程研究中心，湖北武汉４３００７４；２．中国地质大学材料与化学学院，湖北 武汉４３００７４；３．黑龙江省第六地质勘察院，黑龙江佳木斯１ ５４０００） 摘要：以黑龙江鸡西柳毛鳞片石墨为原料制备石墨烯，重点探讨了氧化剂配比、氧化时问对氧化石墨结构 的影响，表征了氧化石墨、氧化石墨烯与石墨烯的晶体结构与形貌特征。并将石墨烯与氧化锌纳米棒阵列 （ＲＧＯ／ＺＮＲｓ）复合，研究了石墨烯浓度对石墨烯／氧化锌纳米棒阵列复合材料光催化降解性能的影响，分析 了复合材料的光降解机制。结果表明：鸡西柳毛天然鳞片石墨成功制备成单层或少层还原氧化石墨烯片，厚 度为１．１～１．３ ｎｍ。石墨烯的引入有效增强了ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料光催化降解性能。当石墨烯浓度为２ ａｇｒ／ｍＬ时，ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料中石墨烯的含量达到最优值，光催化性能最佳。 关键词：石墨；石墨烯；ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料；光催化降解 中图分类号：ＴＢ３８３文献标识码：Ｂ文章编号：１００１—００７６（２０１７）０３—００８４—０６ ＤＯ：：１０．１３７７９／ｉ．ｃｎｋｉ．ｉｓｓｎｌ００１—００７６．２０１７．０３．０１６ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｇｒａｐｈｅｎｅ ａｎｄ Ｉｔｓ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｉｎ Ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｌ／Ｚｈｅｎ１ ．ＹＡＮＧ Ｊｉａｎｂｏｉ ．ＬＩＵ Ｘｕｅｑｉｎｉ ，ＳＨＥＮ Ｙｉｉ ，ＬＩ Ｙｕｎｇｕｏ３ＺＨＡＮＧ Ｊｉｄａｎ３ ，（１．Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｅｎｔｅｒ ｏｆ Ｎａｎｏ—ｇｅｏｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ Ｍｉｎｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｅｄｕｃａｔｉｏｎｍ，Ｗｕｈａｎ ４３００７４，Ｃｈｉ— ｎａ；２．Ｆａｃｕｌｔｙ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｙ，Ｃｈｉｒｎａ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｇｅｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｗｕｈａｎ ３００７４，Ｃｈｉ４— ｎａ；３．Ｔｈｅ Ｓｉｘ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｇｅｏｌｏｇｙ Ｅｘｐｌｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｈｅｉｌｏｎｇｊｉａｎｇ Ｐｒｏｖｉｎｃｅ，Ｊａｍｕｓｉ １５４０００，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｇｒａｐｈｅｎｅ ｈａｄ ｂｅｅｎ ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ ｕｓｉｎｇ Ｈｅｉｌｏｎｇｊｉａｎｇ Ｊｉｘｉ Ｌｉｕｍａｏ ｌｆａｋｅ ｇｒａｐｈｉｔｅ ａｓ ｒａｗ ｍａｔｅ－ ｒｉａｌｓ．Ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ ｏｘｉｄａｎｔ ｒａｔｉｏ，ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｔｉｍｅ Ｏ１３ ｃｒｙｓｔａｌ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ ａｎｄ ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ ｆｅａｔｕｒｅｓ ｏｆ ｇｒａｐｈｉｔｅ ｏｘｉｄｅ，ｇｒａｐｈｅｎｅ ｏｘｉｄｅ ａｎｄ ｇｒａｐｈｅｎｅ ｈａｄ ｂｅｅｎ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄ ａｎｄ ａｎａｌｙｚｅｄ，ｒｅｓｐｅｃｔｉｖｅｌｙ． Ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ ＫＭｎＯ４ ｄｏｓａｇｅ ｏｎ ｔｈｅ ｑｕａｌｉｔｙ ｏｆ ｇｒａｐｈｉｔｅ ｗａｓ ｄｉｓｃｕｓｓｅｄ ｉｎ ｄｅｔａｉｌ．Ｔｈｅｎ ｗｅ ｃｏｍｂｉｎｅｄ ＺｎＯ ｎａｎｏｒｏｄ ａｒｒａｙｓ（ＲＧＯ／ＺＮＲｓ）ｗｉｔｈ ｔｈｅ ｇｒａｐｈｅｎｅ，ａｎｄ ｔｈｅ ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ ｇｒａｐｈｅｎｅ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ ｏｎ ｔｈｅ ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ＲＧＯ／ＺＮＲｓ ｈａｄ ｂｅｅｎ ｓｔｕｄｉｅｄ．Ａｄｄｉｔｉｏｎａｌｌｙ，ｔｈｅ ｐｈｏｔｏ— ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ｍｅｃｈａｎｉｓｍ ｏｆ ｔｈｅ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ ｈａｄ ｂｅｅｎ ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ．ｉｔ ｔｕｒｎｓ ｏｕｔ ｔｈａｔ ｔｈｅ ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ ｇｒａ— ｐｈｅｎｅ ｅｘｈｉｂｉｔｅｄ ｏｎｅ ｏｒ ｓｅｖｅｒａｌ ｌａｙｅｒｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ｌｅｓｓ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ（１．１—１．３ ｎｍ）．Ｔｈｅ ＲＧＯ／ＺＮＲｓ ｄｉｓ— ｐｌａｙｅｄ ａｎ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ｐｒｏｐｅｒｔｙ ｄｕｅ ｔｏ ｔｈｅ ｉｎｔｒｏｄｕｃｉｎｇ ｏｆ ｇｒａｐｈｅｎｅ．Ｆｉｎａｌ— ｌｙ，ｗｈｅｎ ｔｈｅ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ ｏｆ ｇｒａｐｈｅｎｅ ｉｓ ２ ｍｇ／ｍＬ，ｔｈｅ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ ｇａｉｎ ｔｈｅ ｏｐｔｉｍａｌ ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ． Ｋｅｙ ｗｏｒｄｓ：ｇｒａｐｈｉｔｅ；ｇｒａｐｈｅｎｅ；ＲＧＯ／ＺＮＲｓ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ；ｐｈｏｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ 石墨在电气工业、化学工业、冶金铸造、核工业、 航天工业等诸多领域中都有广泛的应用。随着石墨 收稿日期：２０１７—０４—１２ 基金项目：黑龙江国土资源厅项目（２０１６０２） 作者简介：李珍（１９６３一），女，山西临汾人，博士，教授，主要从事矿物材料功能化研究。 第３期 李珍，等：石墨烯的制备及其在光催化材料中的应用 ・８５・ 深加工技术和工业的发展，石墨的应用领域还在不 断拓宽，已成为高科技领域中新型复合材料的重要 １石墨烯的制备及影响因素 １．１ 石墨烯制备工艺 氧化还原法制备石墨烯具有产品分散性好、成 本低、工艺简便、适合工业化等优点，已成为科研工 作者的研究焦点。改进的Ｈｕｍｍｅｒｓｌ５ 法是制备氧 化石墨最常用的方法，具有产量大、绿色环保、适合 原料，在国民经济中具有重要的作用 Ｊ。中国石墨 矿资源丰富，截止２０１６年，中国储量为２６４ ５２８．９ 万ｔ（国土资源部信息中心）。尽管中国石墨矿储量 丰富，但目前石墨深加工技术薄弱。针对石墨的现 状和发展形势，深入探讨石墨深加工技术，对于石墨 产业的发展具有重要意义 Ｊ。 石墨烯单层碳原子紧密堆积成的二维蜂窝状晶 工业化生产等突出优点。为了提高石墨的附加值， 以鸡西天然鳞片石墨为原料，采用改进的Ｈｕｍｍｅｒｓ 格结构，使其具有独特的性能和广阔的应用潜力，已 经成为材料科学最为活跃的研究领域。而如何利用 天然石墨低成本高质量的制备石墨烯及其复合材 法制备氧化石墨，通过超声剥离氧化石墨制备氧化 石墨烯，利用热还原法制备还原氧化石墨烯（简称 石墨烯），制备工艺流程见图１。 料，提高石墨资源的附加值是当前的重点研究方 向 。本文选取黑龙江柳毛鳞片石墨制备还原氧 化石墨烯，重点探讨了氧化剂配比、氧化时问对氧化 石墨结构的影响，分析表征了还原氧化石墨烯的结 １． 构特征。在此基础上将石墨烯与金属氧化物复合， 并探讨了石墨烯浓度对复合材料光催化降解性能的 影响，初步分析了石墨烯引入提高光降解的机理。 图１ 石墨烯的制备工艺流程图 选取不同氧化剂配比和氧化时间进行对比实 验，探讨制备工艺对氧化石墨结构和氧化程度的影 研究对提高石墨资源深加工技术，拓宽石墨应用领 域有一定的指导意义。 响，具体见表１。 表１ 工艺参数及样品编号 １．２ 工艺条件对氧化石墨结构的影响 １．２．１ 不同氧化剂配比对氧化石墨结构的 影响 对不同氧化剂配比制备的氧化石墨进行ＸＲＤ 分析，结果见图２。 从图２可以看出，天然鳞片石墨在２ ０为２６．７。 处的衍射峰为石墨（００２）晶面衍射峰，根据布拉格 方程２ ｄｓｉｎ０＝ｎＡ计算可知，层间距为０．３３ ｒｉｍ。经 过氧化插层作用，天然石墨（００２）晶面衍射峰完全 消失，在２ ０为１０。附近出现一个新衍射峰，表明石 墨完全转化为氧化石墨。不同配比氧化剂制备的氧 化石墨特征衍射峰强度，随高锰酸钾用量增大而增 强，且随着高锰酸钾用量的增加，氧化石墨层间距逐 渐增大。 图２不同氧化剂配比制备的氧化石墨￣ＲＤ图 对不同试剂配比制备的氧化石墨进行红外光谱 分析，结果见图３。 ・８６・ 矿产保护与利用 （． 一 ｕｃａ｜一 啦ｃ 一 Ｗａｖｅｎｕｍｂｅｒ（ｃｍ。｝ 图３不同氧化剂配比制备的氧化石墨ＦＴＩＲ图 从图３可以看出，随着高锰酸钾用量增大，ｓｐ２ Ｃ＝Ｃ键的伸缩振动峰逐渐减弱，表明氧化石墨含有 的未被氧化的ｓｐ２ Ｃ＝Ｃ键数量逐渐减少，氧化程度 不断增大。从吸收峰强度变化可以看出，高锰酸钾 用量增大，氧化石墨氧化程度逐渐增强，此结论与 一－订 订一ｍ ｃ。Ｊ 埔盘 ＿Ｌ ＸＲＤ分析结果一致。 １．２．２ 氧化时间对氧化石墨结构的影响 利用ＸＲＤ对不同氧化时问制备的氧化石墨进 行分析，结果见图４。 ２０《ｄｅｇｒｅｅ｝ 图４不同氧化时间制备的氧化石墨的ＸＲＤ图 从图４可以看出，在６～２４ ｈ氧化范围内，随着 氧化时间的延长，氧化石墨衍射峰的强度不断增强， 峰位向低角度移动。当氧化时间为２４ ｈ时，氧化石 墨层间距达最大值，获得适宜氧化程度的氧化石墨。 当氧化时间超过２４ ｈ后，随着氧化时间的延长，氧 化石墨特征衍射峰的强度和峰位基本不变，大于２４ ｈ的氧化时间对氧化程度的影响较小。 对不同氧化时间制备的氧化石墨进行红外光谱 ‘． ．幛一誊一∞ｃｍ ｃ— 分析，结果见图５。 ＫＳ－２０－４ｇ ‘＼ ／ ！ＫＳ－２０－６ ， ，， ；； ３５１１０ ３０００ ２５００ ２０００ １５００ ｔｏｏｏ ５０ｏ Ｗａｖｅｎｕｍｂｅｒ ｆｃｍ。’） 不同氧化时间制备的氧化石墨的ＦＴＩＲ图 从图５中可以看出，氧化时间６—２４ ｈ范围内， 随着氧化时问的延长，含氧官能团和吸附水分子振 动引起的吸收峰强度逐渐增强，当氧化时间超过２４ ｈ，继续延长氧化时间，含氧官能团的种类未发生变 化，并且含氧官能团和吸附水分子振动引起的吸收 峰强度无明显变化，说明当氧化时间超过２４ ｈ，延长 氧化时间对氧化程度的影响较小，这与ＸＲＤ分析结 果一致。 ２石墨烯结构特征 ２．１ 石墨烯晶体结构 分别对天然鳞片石墨、氧化石墨（ＧＯ）和石墨烯 （ＲＧＯ）进行ＸＲＤ分析，结果见图６。 图６天然鳞片石墨（ａ）、氧化石墨（ｂ）和 石墨烯（Ｃ）的ＸＲＤ图谱 从图６可知，天然鳞片石墨（图６ａ）在２ ０： ２６．８。处的衍射峰归属于石墨（００２）晶面衍射峰，峰 形尖锐，表明石墨的结晶度较高。经氧化处理后，石 ｔ． 。ｍ一 第３期 李珍，等： 墨烯的制备及 光催化材料ｒｌｔ的心川 ・８７・ 墨的（００２）晶面衍射峰消失，在２ ０＝１０．１。附近出 峰）的比（ｆ＝【ＩＤ／ＩＧ，从鳞片石墨一氧化石墨一 墨烯 依次增大，无序度增加，说明氧化石墨已热还原为 墨烯。 现一个强度较弱的特征衍射峰，表明石墨经氧化层 间距增大，有序度变差。官能团和层问水分子的嵌 入是层间距加大的主要原因。此外，强酸作用对石 墨晶型造成破坏，并产生大量缺陷，导致结晶度变 差。经过超声振荡和还原处理，氧化石墨的特征衍 射峰消失，在２ ０＝２５。出现弥散衍射峰（图６ｃ），此 峰位置接近石墨（００２）晶面的衍射峰位置，但峰型 较宽、强度很弱，表明氧化石墨晶体结构被破坏，无 序度增加，形成还原氧化石墨烯。 ２．２ 石墨烯的红外光谱与拉曼光谱特征 分别对天然鳞片石墨、氧化石墨和石墨烯进行 红外光谱和拉曼光谱分析，结果见图７、图８。 图８天然鳞片石墨（ａ）、氧化石墨（ｂ）和 石墨烯（Ｃ）的拉曼光谱图 ２．３氧化石墨烯的形貌 ３ ｏ 采用原子力显微镜（ＡＦＭ）测量氧化石器烯的 厚度，结果见图９。 ２ ＆ 们 Ｃ 芒 Ｉ＇－ Ｗａｖｅｎｕｍｂｅｒ（ｅｒａ’’） 图７天然鳞片石墨（ａ）、氧化石墨（ｂ）和 石墨烯（Ｃ）的红外光谱图 肌ｐｍ ；｛ ～“一 ～一从图７可知，天然鳞片石墨（图７ａ）的红外光谱 曲线平滑，官能团对应吸收峰较弱。由图７（ｂ，ｃ）可 知，位于３ ３５２ ＣｌＴＩ～、１ ７３５ ｃｍ～、ｌ ６２０ ｃｍ～、Ｉ ４０４ ｃｍ～、ｆ ～王 ￡————一— ——～ ：４ Ｖｅｒｔｉｅｚｌｄｉｓｔａｎｃｅ：１．２ｎｍ ？‘ ‘。ｏ｝ ｍ ６¨ ＃ｏｏ １ ２２７ ｃｍ 和１ ０５２ ｃｍ 处的峰分别对应于 图９氧化石墨烯的ＡＦＭ图 吸附水分子０一Ｈ键的伸缩振动、羧基Ｃ＝０键或 羰基的伸缩振动、未氧化的ｓｐ２ Ｃ＝Ｃ键的伸缩振 动、羟基０一Ｈ的变形振动、Ｃ一０的伸缩振动、环氰 Ｉｉ］ ９『１丁知，不同ｌｘ二域氧化 景烯片层厚度分 别为：１．１ Ｉｌｎｌ（ ９ａ）、１．３ Ｎｍ、１．２ ｎｍ（图９ｈ）和１．２ ｎｍ（ ９ｃ），说明氧化 墨烯以单层或少层的形式 仔在，片层厚度约为１．１～１．３ ｎｍ，测最结果与文献 报道的 层氰化石耀烯厚度卡ｕ一敛 。 基Ｃ一０的伸缩振动。经过热还原后，原氧化 避 位于１ ０５２ ａｍ～、ｌ ２２７ ｃｍ～、ｌ ４０４ ｃｍ 以及ｌ ７３５ ｃｍ 处的吸收峰明显减弱甚至消失，而在３ ３５４ ｃｍ 和ｌ ６２４ ｃｍ 处仍存在吸附水分子羟基Ｏ—Ｈ ３ 石墨烯在光催化材料中的应用 以硝酸锌乖¨氨水为原料，采Ｊ｝ｊ湿化 法（义称 共沉淀法，或有液十『Ｉ参加的、通过化学反应制备材料 的方法）在Ｆｅ—Ｃｏ—Ｎｉ合金基底＿ｌ 制备ＺｎＯ纳米棒 阵列（ＺＮＲｓ），采用溶液法成功合成具有较高光催化 的伸缩振动和变形振动，但峰强明显减弱，表明含氧官 能团基本被去除，氧化石墨烯转化为石墨烯，见图７ｃ。 由图８可知，天然鳞片石墨、氧化石墨和石墨烯 的特征拉曼峰：１ ５８０ ｃＩｎ‘。（Ｇ峰）和１ ３５０ ｃｍ （Ｄ ・８８・ 矿产保护与利Ｊ¨ 活性仃 烯／ＺｎＯ纳米棒阵列（ＲＧＯ／ＺＮＲｓ）复合材 料。 点研究了石墨烯的引入对复合材料光催化降 解性能的影响。 ３．１ ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料物相表征 为Ｊ，ｒ解ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料的物相特 ，采 川ＸＲＤ埘氧化石墨烯、ＺｎＯ以及ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合 ｛＝计料结构进行表征，结果见 １０。 图１１ ＺＮＲｓ及ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料ＳＥＭ图 ．旦 Ｃ ３．３ ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料光催化性能及增 强机理 为ｒ＿ｒ解石墨烯含馈对ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料 光催化 ！能影响，采 ０．５ ｎ１ｇ／ｔｌ１Ｉ 、２ ｌＴ１ｇ／ｍＩ 和８ ｒｇ／ｍＬ仃器烯与ＺｎＯ复合，制胬ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材 ａ料 。。催化剂，对｝｝ｌ皋橙进行光能化降解实验．结 ２ 三 图１０ ＧＯ、ＺＮＲｓ及ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料ＸＲＤ图 １２、 Ｉ｝１｝冬｛１０呵以看到，ＸＲＤ图谱中化于２ ０＝ ３１．４。、３４．２。、３５．９。、４７．１。和６２．４。处的衍射峰分别 对应六力‘纤锌型ＺｎＯ的（１Ｏ０）、（００２）、（１０１）、 １ Ｏ ＬＩａｈｔＯｆｆ Ｌｉｇｈｔ ｏｆｔ ● ｊ － ｉｂ ■ ＮＯ ｃａｔａｌｙｓｔ ｒ ● Ｏ ８ Ｉ Ｖ 、 ● ● （１０２）和（１０３）品 ，表明产物为ＺｎＯ（ＪＣＰＤＳ 片 ０ ８ ：３６—１４５】），并Ｈ（００２）衍射峰强度很强，表明 ＺｎＯ纳米棒是沿着ｃ轴垂直于綦底取向生长的。引 入 墨烯后，ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料的ＸＲＤ曲线与纯 ＺｎＯ卡Ｈ似，＿ｍｊ归属于氧化石墨烯特征衍射峰（２ ０＝ ９．４。）并术ｆ¨现，这可能是由复合材料中石墨烯含量 较小ｈ分敞成度较高引起的，此特征 前人研究报 道卡日似 一 、 一 ▲ ’ 。 。 ｏ ｃ）０ ｄ ● ＾ ● ０ ２ ＲＧ。 ０ ０ ： ： 。。 －Ｒｍ 。ＲＧＯ／ＺＮＲｓ－ｏ ５ｍ￣ｍＬ ３０ ０ ３０ ６Ｏ ９０ ＇２Ｏ １５０ １８Ｏ Ｔｉｍｅ（ｍｉｎ） ３．２ ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料的形貌 埘ＺＮＲｓ及ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料的形貌进行 描电镜（ＳＥＭ）分析，结果见 １ ｌ。 图１ ２ 可见光照射下ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料 光催化降解曲线 由图ｌ２叮知，不同含量石墨烯制备的ＲＧＯ／ ＺＮＲＳ复合材料均具有较好的吸附性能：ｌ５％～ ２５％。宅 实验证明在没有ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料 存在的情况下，甲基橙在模拟太阳光的照射一Ｆ儿乎 从 ｌＪ（ａ，ｂ）可以看出，ＺｎＯ纳米棒沿着ｃ轴 乖肖于 底， 现良好的取向生长，ＺｎＯ纳米棒 径 约１００ ｌｑｎｌ，长度约２ ｍ。引入石墨烯后，复合材料的 形貌女ｆ１图１ １（ｃ，ｄ）所示，从图ｌ Ｉ ｃ可以看到，石墨 不发生降解，而ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合材料与纯ＺｎＯ比较 对甲綦橙溶液ｒｆ１光催化降解效率明显提高。作为参 照的纯ＺｎＯ在模拟太阳光照下的光催化活性 较低， ｌ８０ ｍｉｎ后降解率仅为４０．１％， ＲＧＯ／ＺＮＲｓ复合 烯大【ｆ汀积分布 ＺｎＯ纳米阵列表面， 与ＺｎＯ纳米 棒尖端接触卜分紧密（图１１ｔ１），二者良好的接触１为 ＺｎＯ光电化学 能的增强奠定＿ｒ甚础