专利名称：光刻设备和光刻设备清洗方法专利类型：发明专利
发明人：M·K·斯塔文加,R·J·布鲁尔斯,H·詹森,M·H·A·利恩德
斯,P·F·万滕,J·W·J·L·库伊帕斯,R·G·M·比伦,A·M·C·P·德琼格
申请号：CN201010559113.7申请日：20070521公开号：CN102081310A公开日：20110601
摘要：本发明公开了一种光刻设备和一种光刻设备清洗方法，尤其公开了一种具有被配置为清洗表面的兆声换能器的浸没式光刻投射设备和一种利用兆声波清洗浸没式光刻投射设备的表面的方法。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰费尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：王波波
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